Установка ионно-плазменного нанесения оксидного покрытия
Установка предназначена для ионно-плазменного нанесения эмиссионных покрытий на поверхность кернов катодов электровакуумных приборов. В основе работы установки лежит принцип реактивного распыления порошкообразной смеси окислов щелочноземельных металлов для получения молекулярно напыленного оксидного покрытия на кернах катодов.
Оставьте свои данные для связи с нами
Нажимая на кнопку, вы соглашаетесь с условиями о персональных данных
Контакты
Телефон: +7 (499) 729 77 51 micsen@mail.ru
Москва, Зеленоград, Георгиевский пр-кт, дом № 5, строение 1 (Научный центр)