Оборудование нанесения негативного фоторезиста на гибкие подложки

Установка предназначена для двухстороннего нанесения негативного фоторезиста на гибкие подложки методом «вытягивания» и последующей их сушки инфракрасным нагревателем (ИК), как в автоматическом, так и в ручном режиме.
Машина оснащена блоком обеспыливания, для повышения выхода годной продукции и ее качества.
Размещение и фиксация подложек осуществляется на вращающемся столике в технологических оснастках до 8 штук.
Перемещение подложек обеспечивается модулем перемещения вертикального и вращающегося типа.
В автоматическом режиме установка обеспечивает поочередное нанесение и сушку гибких носителей до 8 штук.
Установка имеет возможность регулирования скорости вертикального перемещения каретки с носителями гибких подложек.
Ванна для фоторезиста имеет минимально-возможную площадь зеркала, объем 1,5 литра.
Наличие таймеров для выдержки подложек на воздухе после нанесения и сушке в ИК нагревателе.