Установка химического осаждения вольфрама

Chemical vapor deposition (CVD)

Установка химического осаждения вольфрама из термического разложения гексофторида вольфрама в водороде. Предназначена для нанесения защитных покрытий из пиролитического вольфрама на теплонагруженные элементы электровакуумных приборов. Установка может быть также использована для формообразования изделий из вольфрама.

Нанесение вольфрама на изделия происходит путем разложения гексафторида вольфрама в среде водорода при температуре выше 600 ᵒС и осаждения чистого вольфрама на изделия.

Особенностью данной модели является устойчивость элементов газовой системы к разрушающему воздействию реагентов не сложностью и применением редких и дорогих материалов и устройств, а напротив, специально разработанной газовой системы, уменьшающих контакт элементов с реагентом. Тем самым увеличивающим не только срок службы, но и практически исключающим возможность аварийного прекращения дорогостоящего процесса.
​
Предприятие разрабатывает и изготавливает и другое оборудование химического осаждения из газовой фазы (CVD) по техническому заданию заказчика.