Установка парофазного осаждения оксида олова Direct liquid injection Chemical vapor deposition (DLICVD)
Установка осаждения модель P2001 – это система, в которой оксид олова, легированный сурьмой, полученный из впрыскиваемого в камеру аэрозоля, осаждается на керамических трубках в соответствии с химической реакцией образования металлокерамики. Это результат конструкторской разработки, проведенной нашим коллективом в 2013г. при производстве реакторов и в сотрудничестве с производителями полупроводников и университетскими исследовательскими центрами.
Наша Компания спроектировала P2001 в ответ на потребности промышленности в системах, производящих резистивные пленки с превосходным контролем за такими критическими параметрами как: - удельное сопротивление - гибкость процесса от менее, чем 1 до более 20 микрон.
Оставьте свои данные для связи с нами
Нажимая на кнопку, вы соглашаетесь с условиями о персональных данных
Контакты
Телефон: +7 (499) 729 77 51 micsen@mail.ru
Москва, Зеленоград, Георгиевский пр-кт, дом № 5, строение 1 (Научный центр)